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共聚焦显微镜工业测量仪

产品简介

共聚焦显微镜工业测量仪具备一体化操作的测量与分析软件,预先设置好配置参数再进行测量,软件自动统计测量数据并提供数据报表导出功能,即可快速实现批量测量功能。设备具备表征微观形貌的轮廓尺寸及粗糙度测量功能;可测各类包括从光滑到粗糙、低反射率到高反射率的物体表面,从纳米到微米级别工件的粗糙度、平整度、微观几何轮廓、曲率等。

产品型号:VT6100
更新时间:2024-05-13
厂商性质:生产厂家
访问量:1300
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共聚焦显微镜主要采用3D捕获的成像技术,它通过数码相机针孔的高强度激光来实现数字成像,具有很强的纵向深度的分辨能力。在材料生产领域中,共聚焦显微镜工业测量仪可广泛应用于半导体制造及封装工艺检测、3C电子玻璃屏及其精密配件、光学加工、微纳材料制造、汽车零部件、MEMS器件等超精密加工行业及航空航天、科研院所等领域中。可测各类包括从光滑到粗糙、低反射率到高反射率的物体表面,从纳米到微米级别工件的粗糙度、平整度、微观几何轮廓、曲率等。


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产品功能

1)设备具备表征微观形貌的轮廓尺寸及粗糙度测量功能;

2)设备具备自动拼接功能,能够快速实现大区域的拼接缝合测量;

3)设备具备一体化操作的测量与分析软件,预先设置好配置参数再进行测量,软件自动统计测量数据并提供数据报表导出功能,即可快速实现批量测量功能;

4)设备具备调整位置、纠正、滤波、提取四大模块的数据处理功能;

5)设备具备粗糙度分析、几何轮廓分析、结构分析、频率分析、功能分析等五大分析功能;

6)设备具备一键分析和多文件分析等辅助分析功能,可实现批量数据文件的快速分析功能;


技术指标

型号VT6100


行程范围

X100mm
Y100mm
Z100mm
外形尺寸
520*380*600mm
仪器重量50kg
测量原理共聚焦光学系统
显微物镜10×;20×;50×;100×
视场范围120×120 μm~1.2×1.2 mm


高度测量

重复性(1σ)12nm
精度± (0.2+L/100) μm
显示分辨率0.5nm


宽度测量

性(1σ)40nm
精度± 2%
显示分辨率1nm
XY位移平台负载10kg
控制方式电动
Z0轴扫描范围10mm
物镜塔台5孔电动
光源白光LED


应用领域

共聚焦显微镜工业测量仪对各种产品、部件和材料表面的面形轮廓、表面缺陷、磨损情况、腐蚀情况、平面度、粗糙度、波纹度、孔隙间隙、台阶高度、弯曲变形情况、加工情况等表面形貌特征进行测量和分析。


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共焦显微镜系统所展现的放大图像细节要高于常规的光学显微镜。传统光学显微镜上常配备灵敏度较低的CCD相机来采集图像,对于低照度的光,如荧光无法探测到,而共聚焦显微镜系统使用的探测元件是高灵敏度的光电倍增管,对微弱的荧光信号可以呈现出很高的灵敏度,并且还可以通过缩小激发范围并使用光学切片来消除背景噪声。


在相同物镜放大的条件下,共焦显微镜所展示的图像形态细节更清晰更微细,横向分辨率更高。


应用范例



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